石墨烯“碳基芯片”诞生,性能或提升10倍以上,采用碳纳米管工艺

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石墨烯“碳基芯片”诞生,性能或提升10倍以上,采用碳纳米管工艺

作为全球先进的芯片制造商台积电,在硅基芯片的研发上已经突破到了5nm工艺,并且正在向2nm工艺进发,但2nm之后硅基芯片的工艺似乎遇到了瓶颈。而我国因为受到了美国的制裁,虽然在芯片设计上有所成就,但是在光刻机等制造设备中却无法突破。两种情况的趋势下,全世界科技人员开始了新材料芯片的研发。

碳基芯片是否需要光刻机

可以肯定的是,碳基芯片是不需要光刻机的,所以也不会使用光刻胶,要不然彭练矛和张志勇教授花费这么大精力去研发碳基芯片还要依赖光刻机的话,那么它的使用价值并不高,毕竟在光刻机的研发上面,我们和ASML的差距还是很大的,那么想要弯道超车就必须摆脱光刻机的控制。而且目前的硅基芯片已经发展到2nm技术,基本已经达到瓶颈,想要继续突破将会非常困难,那么研发一种全新材质的芯片成为了一个世界科技行业共同的目标。只不过,这一步,我们来得更早一些。

普通芯片的制作工艺

传统芯片的制造过程需要经过是通过抛光、光刻、蚀刻、离子注入等一系列复杂的工艺过程。也就是先用激光将电路刻在掩盖板上(相当于我们印刷的转印技术),再通过用紫光通过掩盖板将电路印在硅片上进行曝光,涂上光刻胶等刻蚀后就能在硅圆上制造出数亿的晶体管,最后进行封装测试,芯片就制作完成。而这个过程是无法离开光刻机和刻蚀机的。

碳基芯片的制作工艺

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